CMP化學(xué)產(chǎn)品專用多組分濃度計(jì)
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產(chǎn)品名稱:
CMP化學(xué)產(chǎn)品專用多組分濃度計(jì)
產(chǎn)品型號(hào):
FUD-1 Model-53
產(chǎn)品廠商:
巖瀨商事
產(chǎn)品文檔:
無相關(guān)文檔
簡(jiǎn)單介紹
CMP化學(xué)產(chǎn)品專用多組分濃度計(jì)，易于維護(hù)和高精度在線測(cè)量，但具有用于半導(dǎo)體制造工藝的小型單元型振蕩器。
CMP化學(xué)產(chǎn)品專用多組分濃度計(jì)
的詳細(xì)介紹
FUJI富士工業(yè) CMP化學(xué)產(chǎn)品專用多組分濃度計(jì) FUD-1 Model-53
多組分濃度計(jì)特點(diǎn)
可以實(shí)時(shí)測(cè)量三種成分中兩種的濃度模擬DC4-20mA（2線）和數(shù)字RS232C是標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備。
標(biāo)準(zhǔn)配備測(cè)量誤差輸出和報(bào)警輸出
標(biāo)準(zhǔn)配備自診斷功能和錯(cuò)誤信息顯示
小型、輕量的單元型發(fā)射器可以直接安裝在生產(chǎn)線上。
優(yōu)點(diǎn)
可實(shí)現(xiàn)高精度連續(xù)測(cè)量
免維護(hù)，無需定期調(diào)整或校準(zhǔn)
安裝方便，安裝過程中無需進(jìn)行各種調(diào)整
通過實(shí)時(shí)輸出輕松反饋流程
目的
CMP工藝中的CMP漿料和氧化劑濃度管理等。
清洗過程中的清洗液濃度管理等（HF+HNO3、HF+H2SiF6等）
蝕刻過程中蝕刻液濃度控制（TMAH+抗蝕劑、TMAH+Si等）
